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램리서치, 웨이퍼 엣지 수율 개선 솔루션 선보인다

램리서치는 웨이퍼 엣지 부분을 최대한 활용할 수 있게 하는 솔루션을 새로 선보였다. /램리서치.



램리서치가 웨이퍼 엣지 수율을 개선하는 새로운 솔루션을 내놨다고 4일 밝혔다.

새 프로그램은 수율이 낮은 편인 웨이퍼 가장 자리를 최대한 활용할 수 있도록 하는 내용이다. 불연속성을 제어해 수율을 높이는 기술을 포함했다.

다이간 변동을 줄이고 편차도 최소화해준다. 표면을 깨끗하게 청소하고 보호층을 증착하는 등 방법도 있다.

웨이퍼 엣지 처리는 수율을 높이는 핵심 기술로 평가된다. 동그란 웨이퍼 특성상 엣지 부분에는 결함이 많이 생기기 때문이다.

램리서치 부사장 겸 식각 제품군 사업부장인 바히드 바헤디는 "웨이퍼 엣지의 수율을 실질적으로 높이는 것이 고급 노드의 비용을 절감 시키는데 있어 매우 중요한 요소"라며, "램리서치는 개발 프로세스 초기부터 고객과 협력하여 웨이퍼 엣지에서의 기술적 난관을 파악하고 해결할 수 있다. 이에 따라 비용적으로 효율적인 디바이스 확장에 필수적인 생산성 및 수율 향상을 위한 새로운 솔루션을 추가했다"고 설명했다.

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